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真空箱式氣氛爐

真空氣氛箱式爐是一種可在真空或可控氣氛環境下進行高溫熱處理的精密實驗設備

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  • 產品描述

  • 真空氣氛箱式爐是一種可在真空或可控氣氛環境下進行高溫熱處理的精密實驗設備。該設備采用高潔凈度的石英腔體，配合精密的溫度控制系統與氣體氛圍調控系統，能夠滿足對材料潔凈度與處理氣氛有嚴苛要求的工藝。其廣泛應用于金屬熱處理、鋰電池材料、半導體及電子材料研發等領域。

     

    系統參數：

    產品名稱

    真空氣氛爐

    產品型號

    ZKX-300F

    最高溫度

    1100℃

    工作溫度

    ≤1000℃

    爐膛尺寸

    Φ316/φ300*550mm

    恒溫區

    Φ300*250mm

    承重范圍

    ≤3Kg

    爐膽材質

    石英

    加熱元件

    電阻絲

    測溫元件

    熱電偶K偶

    升溫速率

    0-1000℃≤10℃/min；1000℃~1100℃≤5℃/min

    控溫方式

    智能化30段可編程控制（PID獨立控制調節）

    控溫精度

    ±1℃

    真空度

    真空度：-0.1MPa（機械泵4L）

    水冷制冷量

    1.5w

    水冷容積

    6L

    額定電壓

    380V

    額定功率

    12KW

    爐體尺寸

    956*800*1700mm（深*寬*高）

    標準配置

    氣路總成一套（含真空壓力表），石英膽一個，隔熱堵一個，鉤子一把，手套一副

    選配

    如需提升真空度，可更換真空泵或升級為高真空機組

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